集成电路是半导体产业的重要组成部分，是数字化的经济和电子信息产业最重要的基本元素，是实现电子性能的载体，支撑着算力、通信、计算机、信息家电与网络技术等电子信息产业的发展，具备广阔的市场空间和增长潜力，同时也是当前世界上最具有竞争力和最具活力的高技术产业之一。近年来受地缘冲突升级、全球经济下行、消费类电子科技类产品需求疲软等多重因素的影响，全球半导体市场经历了显著的起伏。根据美国半导体工业协会（SIA）报告数据显示，2023年全球半导体产业销售额同比下滑，预计同比下降8.2%至 5,268亿美元。其中，日本同比下降 3.1%、美洲同比下降 5.2%、亚太/所有别的地方同比下降10.1%，中国同比下降14.0%。尽管2023年全球及中国半导体销售额有所下滑，但从去年第四季度数据能够准确的看出，这一销售额数据有所回升：去年第四季度，全球半导体销售额为1,460亿美元，环比增长8.4%，其中中国市场环比增长4.7%。我国半导体市场显示出下滑企稳的迹象。

  集成电路作为信息产业的基础和核心，是关系国民经济与社会持续健康发展全局的战略性、基础性和先导性产业。集成电路产业链包括集成电路设计、晶圆制造和封装测试等子行业。目前，我国已初步形成芯片设计、晶圆制造、封装测试的集成电路全产业链，行业进入新的黄金发展期，并成为全世界集成电路市场增长的重要推动力之一。企业主要开发用于集成电路制造的关键工艺材料，包括电镀液及添加剂、清洗液、光刻胶、研磨液四大系列新产品，处于整个产业链的上游环节，随着半导体制造市场的增长而增长，并对半导体产业的发展起着重要支撑作用。根据国际半导体产业协会（SEMI）最新披露的《全球晶圆厂预测》报告，从2021年至2023年期间，全球将投入建设84个晶圆厂，包括22年开工建设33个新的半导体晶圆厂设施，以及2023年将会新增28个建设项目, 预计2024年全球半导体产能将增长6.4%。未来随着行业的一直增长，预计到2026年，中国大陆12英寸晶圆厂月产能有望达240万片，全球比重将自2022年的22%，增长至2026年的25%，国产材料供应商市场机会凸显，有望加速我公司在半导体关键领域的国产替代进程。

  据中国电子材料行业协会多个方面数据显示，预计2023年我国集成电路用湿电子化学品市场规模将达到61.3亿元，同比增长8.3%，到2025年我国集成电路用湿电子化学品市场需求和市场规模将分别达到 106.94万吨和 69.8亿元。按照组成成分和应用工艺不同，可将湿电子化学品分为通用湿化学品和功能性湿化学品两大类，功能性湿化学品最重要的包含电镀液及其添加剂、清洗液、刻蚀液等。目前，电镀液在晶圆制造和先进封装中主要使用在于铜互联工艺中，该工艺系晶圆制造和先进封装的关键工艺，其具有更低的电阻率、抗电迁移性，能够很好的满足芯片尺寸更小、功能更强大、能耗更低的技术性要求。铜互连工艺贯穿整个芯片制作的完整过程，随着先进封装领域对镀铜材料需求的快速增加，满足集成电路制造大马士革铜互连、先进封装凸块电镀（Cu Pillar/Bump/RDL/UBM）、硅通孔（TSV）电镀等工艺要求的材料市场占有率也将逐步扩大,而且铜互连材料也是目前电镀材料最大的细分市场。据TECHCET多个方面数据显示， 2022年全球半导体用电镀材料市场规模达到10.2亿美元，同比增长8.3%。预计2023年半导体电镀化学材料市场规模将小幅下降至9.92亿美元，而2024年有望出现明显回升，增长5.6%至10.47亿美元。预计2024年最大的细分市场来自用于设备级互连和先进封装布线年复合年增长率预计将保持上涨的趋势，先进封装将增长3.5%，铜器件互连将增长3%。

  随着晶体管尺寸的不断微缩，晶圆制造工艺日益复杂，对半导体湿法清洗技术的要求也慢慢变得高。清洗工艺亦是贯穿整个半导体制造的重要环节，几乎在芯片制造的每一道工序前后，都需要进行清洗工艺，去除干法刻蚀灰化后晶圆表面的无机物、光刻胶、金属杂质等残余污染物，保证晶圆表面的洁净度，清洗工艺是芯片制造过程中占比最高的工序，约占所有芯片制造工序的30%，是影响半导体器件性能以及良率的重要因素之一。随着芯片工艺节点进入 28-14nm，甚至更先进的节点，工艺流程更加复杂，芯片制造对沾污的敏感度更高，小尺寸条件下的沾污清洗更加困难，也就导致清洗工艺步骤不断增加，清洗工艺变得更加复杂，清洗工艺的道数变得更多，大幅增加集成电路制造商对清洗材料的需求。此外，由于12英寸晶圆产线对清洗、电镀类工艺材料的需求量较8英寸/6英寸产线有明显增加，未来随着我国 12英寸晶圆产能占比的逐步提升，集成电路用工艺材料需求量有望进一步增长。

  光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，占芯片制造时间的40%-50%，光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料。据SEMI数据显示，2022年全球半导体光刻胶市场规模达27.1亿美元，预计2023年全球半导体光刻胶市场规模达25.5亿美元，较上年同期下降5.9%，2015-2022年复合增长率（CAGR）为10.7%；2021年中国大陆半导体光刻胶市场规模达 4.93亿美元，较上年同期增长43.69%，远超全球增速。随着国内晶圆代工产能的不断提升，预计 2025年中国半导体光刻胶市场规模有望达到 100亿元。随着制程缩减和存储容量提升，光刻次数增加，单位面积光刻胶的金额也会慢慢的升高。

  CMP研磨液（Slurry）是晶圆化学机械研磨过程的重要耗材，由固体粒子研磨剂、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等成分构成，借助纳米粒子的研磨及氧化剂的腐蚀作用，从而实现化学机械相结合的抛光效果。CMP 研磨液市场较大，占晶圆制造材料市场规模的7%，是晶圆制程中用量最大的电子化学品之一。根据TECHET数据显示，预计2022年市场规模超过20亿美元，预计下滑2.4%。未来随着IC制程节点不断推进、存储芯片制程技术升级和演进，抛光液步骤及材料需求会相应提高。

  政策层面，2023年是国家“十四五规划”的“中坚”之年，更是“攻坚”之年。根据《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和 2035年远景目标纲要》（2021年）、《上海市战略性新兴产业和先导产业发展“十四五”规划》（2021）、《上海市先进制造业发展“十四五”规划》（2021）、《上海市国民经济和社会发展第十四个五年规划和二〇三五年远景目标纲要》（2021）、《关于新时期促进上海市集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》（2022）等重要政策，国家和地方产业基金对材料领域扶持力度正不断加强，国产替代进程不断加速。短期来看，宏观经济景气度持续上行，下游市场需求旺盛，长远来看，半导体产业增长前景仍较为强劲，半导体产业未来发展趋势依然强势向好。公司在该行业的相关产品主要应用于集成电路制造及封装领域，目前已是全国集成电路关键工艺材料技术领先企业。随着集成电路行业的快速发展，尤其是我国集成电路市场的高速增长，势必将带动集成电路制造及封装行业市场的快速增长。

  涂料作为一种用于涂装在物体表面形成涂膜的材料，广泛用于各行各业，由于其可以增强金属结构、设备、桥梁、建筑物、交通工具等产品的外观装饰性，延长使用寿命，具有使用安全性以及其他特殊作用（如电绝缘、防污、减阻、隔热、耐辐射、导电、导磁等），是国民经济配套的重要工程材料。

  根据《涂料世界》杂志估测，2022年世界涂料销售额将达到 1,980亿美元，其中亚洲占45%，大约为900亿美元；中国约占亚洲份额的58%，为520亿美元。中国为世界第一涂料生产及消费大国，是位于第二位的美国的 1.5倍。从涂料工业全球地区分布来看，亚太、欧洲和北美是全球涂料行业的领先地区，目前全球涂料前十大企业均为该三个地区的企业。发展至今，我国已成为全球最大的涂料生产国和亚太地区主要涂料消费市场。据中国涂料工业协会统计，我国涂料行业已有超过 5000家企业，其中规模以上涂料生产企业约有 800家。按应用领域分类，我国涂料行业主要包括建筑涂料、工业涂料、通用涂料及辅助材料。其中建筑涂料占比最高，约为70%。我国涂料产品的年产量从“十二五”末的1717.6万吨增至“十三五”末的 2459.1万吨，平均年增长率7.44%，年均增长率高于国家GDP增长率。根据中国涂料工业协会统计数据，2017-2021年，我国涂料的产量和进出口量都呈上涨趋势2021年我国涂料的产量、出口量和进口量分别为2,860万吨、21.34万吨和21.23万吨，根据相应的年均增长率计算，2025年我国涂料的产量、出口量、进口量和消费量预估分别为4,022万吨、23.9万吨24.9万吨和4,023万吨。

  氟碳涂料主要为氟聚合物树脂，由于氟碳涂层具有较好的化学耐腐蚀性能和耐紫外光分解性能，广泛应用于建筑、钢结构工程、船舶车辆、家电不粘涂层和医疗器材等众多方面。我国PVDF氟碳涂料虽然起步较晚，但发展迅速，仅仅十几年的时间就实现了从无到有，从小到大的跨越。近年来，随着我国城市基础设施建设的迅猛发展，以及政府部门和行业组织的大力推动，我国氟碳涂料得到了长足的发展，产品在国内一大批标志性工程上得以应用，包括首都国际机场、东方明珠电视塔、金茂大厦和环球金融中心等。我国PVDF氟碳涂料的应用主要集中在建筑建材领域，特别是高档建筑的幕墙、公共场馆和铝制门窗等。而在经济发达国家，PVDF氟碳涂料历经40年的研究和发展，已经广泛应用于建筑、化工设备、电子三大领域，其用量各占 1/3。随着我国基础建设的进一步加大以及氟碳涂料应用再推广到石油化工、电子技术、食品工业、核电工业、船舶、海洋工程等其他领域，未来PVDF氟碳涂料市场潜力更大。

  随着中国城市化进程的不断推进，涂料行业也随之加快发展。2023年，我国持续推动新型城镇化建设，基建工程、旧城改造、城市更新、保障房建设、乡村振兴等政策机遇将持续带动涂料建材需求。此外，中国第二十次全国代表大会提出坚持以创新驱动发展，发展绿色低碳产业，稳步推进绿色低碳转型。目前涂料建材格局正在发生深刻改变，高质量、绿色低碳发展成为行业主题。国内涂料行业仍处于重要战略机遇期，行业增长动能更具多元化，发展潜力巨大。随着各国经济的发展，对工程建筑的品质不断提升，“碳达峰”、“碳中和”已成为各国政府工作的重点之一，绿色低碳也是全世界的发展潮流。中国涂料工业协会预测“十四五”我国涂料行业发展将在后半程有较大的消费反弹，行业将稳定发展，达到目标水平。

  公司始终坚持自主研发，持续进行技术创新，经过二十多年发展，主要形成两大类业务，一类为集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务，并为客户提供整体化解决方案。另一类为环保型、功能性涂料的研发、生产及相关服务业务，并为客户提供专业的整体涂装业务解决方案。主要产品包括：

  晶圆制造及先进封装用电镀液和添加剂系列产品为公司面向芯片制造领域开发的第二代电子电镀产品。主要包括大马士革铜互连、TSV、Bumping电镀液及配套添加剂。

  晶圆制造用蚀刻后清洗液、研磨后清洗液以及蚀刻液系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子清洗液系列产品。主要包括铜制程蚀刻后清洗液、铝制程蚀刻后清洗液、氮化硅/钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液等。

  集成电路制造用高端光刻胶系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子光刻系列产品。包括I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜（BARC）等配套材料，主要用于逻辑、模拟和存储芯片生产制造。

  公司化学机械研磨液主要包括适用于浅槽隔离研磨液（STI Slurry）、金属钨研磨液(W Slurry)、金属铜研磨液(Cu Slurry), 硅氧化层研磨液(Oxide Slurry)，多晶硅层研磨液(Poly Slurry)等系列产品，研磨液产品可覆盖14nm及以上技术节点。

  半导体封装用电子化学材料为用于半导体引线脚表面镀锡的化学材料及其配套电镀前处理、后处理化学材料，是公司面向传统封装领域开发的第一代电子电镀与电子清洗产品，包括无铅纯锡电镀液及添加剂、去毛刺溶液等。

  配套设备产品包括半导体封装引线脚表面处理配套电镀、清洗设备和先进封装制程用电镀、清洗设备。

  环保、功能性氟碳涂料包括：PVDF氟碳粉末涂料、氟碳喷涂涂料、氟碳辊涂涂料、超细耐候粉末涂料等。

  其它产品与服务主要为围绕半导体产业和泛半导体产业开展的相关业务，主要在子公司进行。包括：晶圆湿法工艺技术开发与服务、晶圆划片刀、平板显示用光刻材料、集成电路制造用抛光液磨料的研发等。

  公司围绕自身的核心技术，面向集成电路产业当前和未来需求，以自主研发、自主创新为主，开展集成电路制造用关键工艺材料的研发和产业化。始终坚持以技术主导为核心，持续研发创新，积极融入国家创新体系。通过自主评估并结合国家科技重大专项的需求设立研发项目，开展产品开发、应用技术开发和生产工艺开发。同时与客户保持密切合作，针对性研发满足客户需求的产品，为其开发创新性的解决方案。通过对产品性能的不断优化及应用和生产工艺的提升，持续满足客户的需求。

  公司根据 ISO质量体系要求，制定了《采购控制程序》，《采购流程》《供应商管理流程》做到规范化，系统化的执行各项采购工作。

  b.原材料采购，由需求部门提出材料需求，由质量部，技术中心共同评估材料的指标性能，招标后从合格供应商处采购，确保稳定供应；

  公司采用以销定产的方式确定生产量。计划部每月月初根据市场部统计的订单情况以及备货策略，编制当月的生产计划，生产部合理安排实施当月生产。每周生产部和计划部还会依据市场订单的变化及生产进度调整生产计划，以满足客户的产品需求的同时提高产品周转率。

  公司采用的是直销模式。公司在半导体材料领域深耕二十多年，积累了良好的客户资源，并和其中的一些客户形成了战略合作关系。公司市场部负责跟进、整理公司所属行业发展情况，制定公司市场战略规划，制定公司业务目标以及产品市场的开发和产品销售工作。公司市场人员直接与客户进行商务洽谈，达成初步交易意向，签订销售合同。市场部销售人员负责与客户进行订单确认、评审、发货计划衔接、产品出库运输等销售管理工作。公司持续为客户提供优质产品和服务的同时，通过挖掘已有客户新需求和不断开发新客户保证公司营业收入的持续增长。

  公司在集成电路制造用关键工艺材料及设备领域深耕细作，在为客户提供优质产品的同时，更能为客户提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案，快速响应客户需求，多方位整合公司资源，创新研发，为客户带来丰富和优质的服务方案，提升客户的产品竞争力。

  2023年全球经济下行压力不减，国际政治经济环境不利因素增多，宏观经济逐步复苏，虽不及预期，但整体市场仍然充满活力。新挑战、新机遇、新技术、新应用并存。公司管理层围绕长期发展战略和年度经营目标，积极作为、用心管理，群策群力，紧跟市场需求变化，凭借敏锐的市场洞察力、出色的产品创新力以及果敢的经营执行力，进一步提升产品核心竞争优势与市场占有率。

  报告期内，公司实现营业收入12.12亿元，较去年同期略有增长。实现归属于上市公司股东的净利润1.67亿元，同比增长213.41%，扣除非经常性损益后净利润为1.23亿元，同比增长10.27%。公司半导体行业实现营业收入7.68亿元，同比增长20.06%，主要是公司半导体业务板块产品类型不断丰富，市场开发力度不断加强，取得客户订单数量持续增加。尤其是晶圆制造用关键工艺化学材料销量增加较多，其中，晶圆制造用电镀液及添加剂系列产品市场份额快速增长，集成电路制造用清洗系列产品在客户端认证顺利，销售增长迅速。涂料板块业务，受建筑行业市场环境低迷、涂料产品售价大幅下降等不利因素影响，2023年实现营业收入4.44亿元，较去年同期下降20.08%。

  公司坚定不移地贯彻执行以技术为主导，始终坚持自主研发，持续创新；始终坚持面向产业需求，面向前沿技术，面向国内空白，面向进口替代的战略定位。报告期内，面对产业快速发展及下游客户的迭代需求，公司围绕四大核心业务技术，持续研发投入，创新产品，为客户提供整体化解决方案。报告期内公司研发投入总额1.48亿元，占本期营业收入的比重为12.27%，主要集中于集成电路制造用光刻胶、先进制程湿法刻蚀液、清洗液、添加剂、化学机械研磨液等项目。

  在集成电路制造及先进封装材料领域，随着芯片技术的向前发展，推动芯片朝着高性能（大功率、高算力）和轻薄化（体积/面积小）两个方向提升，芯片铜互连成为主流互连工艺技术。电镀系列产品——大马士革工艺、硅通孔工艺（TSV）、凸点工艺（Bumping）广泛应用，来实现金属之间的互联。公司电镀液及其添加剂是实现互联技术的关键工艺材料。经过多年的开发、技术储备以及与客户紧密的联系，报告期内公司电镀液添加剂相关产品销售规模快速提升，与去年同期相比增长达50%。

  在集成电路制造用清洗液产品方面，28nm干法蚀刻后清洗液产品已规模化量产，14nm技术节点干法蚀刻后清洗液也已量产并实现销售，公司干法蚀刻后清洗液产品已经实现14nm及以上技术节点全覆盖。本报告期干法蚀刻后清洗液产品销售规模不断扩大，广泛应用于逻辑电路、模拟电路、存储器件等晶圆制造客户。其中，铝互连干法蚀刻后清洗液长期受制于国外唯一原材料供应商限制，面对先进制程所需的配套材料亦需国产化的现状，公司自主研发攻关的防“卡脖子”的关键原材料项目——非羟胺清洗液项目，已开发出满足晶圆制造企业要求的无羟胺干法蚀刻后清洗液产品，并在国内主流晶圆制造客户端通过验证并实现销售，报告期内该项目产品的清洗能力不断提升。公司报告期内开发的钨残留去除液一次性通过客户测试验证，并取得订单，新产品的开发销售将不断拓展公司清洗液产品应用市场。在公司原创开发的蚀刻液产品方面，持续纵深开发，做好前瞻性研究和技术储备，针对14nm及以下、3D存储工艺需求的刻蚀/清洗类配方型化学品技术积极布局重点开发，进一步扩大市场应用，引领行业发展。公司清洗类产品的技术及服务优势不断凸显，品牌影响力不断提高，产品渗透率持续提升。

  在光刻胶及研磨液两大类产品方面，报告期内均取得了长足的进展与突破。其中，光刻胶项目研发进展顺利，I线、KrF光刻胶产品工艺性能指标不断优化提升，满足客户的工艺需求。目前光刻胶已具备量产能力，在超20家客户端提供样品进行测试验证，报告期内光刻胶产品销量快速增加。ArF光刻胶的研发进展也比较顺利，浸没式光刻胶目前已有多款产品在国内多家晶圆制造企业开展测试验证工作，部分型号产品已取得良好的测试结果及工艺窗口，技术指标与对标产品比较接近。报告期内光刻胶系列产品已实现营业收入400余万元。在研磨液系列产品方面，基础研发、生产工艺、分析开发等方面工作进展迅速，已形成成熟的STI Slurry、Poly slurry，W slurry系列产品在超过20余家客户端测试验证，其中W slurry系列产品在客户端验证顺利，有望率先量产应用。本报告期公司化学机械研磨液已有多款产品通过客户测试，实现销售。

  公司多年来始终如一，坚持自主创新，充分挖掘自身潜力，与产业链上下游协同创新发展，坚定不移地围绕国家被“卡脖子”关键工艺材料产品，围绕公司核心技术持续创新，不断突破，不断提升公司在集成电路制造用关键工艺材料领域的竞争力。

  半导体行业的发展对科技和经济发展具有重要意义。随着整个半导体产业的持续增长以及中国大陆新建代工产能的持续不断的增加，中国大陆半导体市场规模增速将会持续超越全球增速，成为全球最大的半导体材料市场。公司开发的集成电路制造用关键工艺材料产品仍然面临旺盛的市场需求。公司布局规划的电镀液及添加剂、清洗液、刻蚀液、光刻胶、研磨液等化学品材料产能不断加强完善，其中上海松江厂区年产能1.9万吨扩充目标已建设完成，合肥第二生产基地一期1.7万吨已基本具备投产条件，建设有原料储罐及自动加料系统、自动称量系统、自动控制系统等自动化和智能化设备设施。合肥二期规划5.3万吨年产能各类手续正在办理中。本报告期，公司化学品产出近1.4万吨，其中晶圆制造用化学材料产品产量占比超70%。为了进一步巩固在国内半导体材料行业的领先地位，根据市场需求及规模情况，公司与上海化学工业区管理委员会、上海化学工业区发展有限公司签订《投资意向协议》，启动位于上海化学工业区的项目建设，规划占地104亩，建筑面积6.5万平方米，合计产能6万吨，该项目主要用于开发光刻胶及配套材料产业化。随着公司在半导体业务产能方面布局的持续完善，新基地的陆续建成投产，公司产能规模不断释放，对市场的供应能力逐步增强，能够满足未来市场需求的增长。

  新阶段的新阳公司，始终围绕技术引领、产品引领、市场引领的战略目标，持续创新、创造，打造自身的技术创新优势和未来增长动力，重视体系建设、技术升级及前瞻性研究，努力成为半导体材料行业引领者。

  2023年全年公司围绕“持续推进半导体气息”管理主题，一方面从企业运营着手，不断实践，不断优化完善管理体系，重点关注市场规划、供应链管理、质量管理、技术创新、安全生产等方面工作，全力落实推进基础数据上线，数据互通、业财融合的系统改造升级任务，实现信息交互同步，优化交叉业务流程，以便满足未来集团战略管控需要，支持集团发展目标。

  另一方面公司注重人才团队的培养建设和员工生活。随着公司业务规模的不断扩大，员工人数持续增加。截止报告期末，公司半导体业务板块人员净增112人，同比增长22%。面对快速发展的行业现状及人员增加，公司也同样注重人才的能力和团队的建设，公司结合行业现状及公司发展规划，完善各层级人才梯队建设，开展行业动态讲座，强化师徒带教的人才培养模式，为员工搭建职业发展、学习成长的平台，让员工与公司共同成长，持续进步。

  在员工生活方面，公司通过持续开展“心温暖”民主对话会活动倾听员工心声，开展半导体气息知识有奖问答活动，持续提升全员半导体气息意识，组织聚力凝心三峡团建活动、健身运动等等活动，关注员工生活、倾听员工心声、激发员工工作和生活热情，提高员工企业文化认同感。

  报告期内，公司完成了2022年度股份回购计划，回购公司股份2,632,685股，用于公司股权激励计划。2023年公司持续实施股权激励及员工持股的一揽子计划，践行薪酬证券化长效激励机制，实施了新成长（二期）股权激励计划及芯征途（二期）员工持股计划，持续与员工共享公司发展红利，提升员工在企幸福指数。未来公司还会持续推行薪酬证券化的长效激励机制，不断吸引、聚集优秀人才，为公司未来长期稳定的可持续发展提供强有力的人才保障。

  通过各项“深化半导体气息”工作的不断开展，目标是增强公司的生存成长能力和行业影响力，提升每一位员工的个人品格魅力和职业素养，最终实现企业竞争力的全面提升。

  长期以来公司持续加深在集成电路关键工艺材料领域的投资布局，投资推动半导体专用设备产品及核心原材料企业的发展。另一方面，公司亦积极参与产业投资，除前期投资的苏州安芯同盈创业投资合伙企业（有限合伙）、江苏新潮万芯创业投资合伙企业（有限合伙）等项目外，报告期内还投资了长存产业投资基金（武汉）合伙企业（有限合伙）项目，在完善公司半导体产业链布局的同时，助力半导体材料装备发展，与公司主营业务产生协同作用，不断拓展和加强公司产品实力及行业影响力。

  公司是国家工信部第一批“专精特新”小巨人企业、上海市集成电路关键工艺材料重点实验室、高新技术企业、上海市企业技术中心、上海市专利工作示范企业、上海市重合同守信用AAA级企业。公司多次承担国家科技重大专项《极大规模集成电路制造装备及成套工艺专项》项目，并获得国家专项体制创新奖。截至报告期末，公司已申请专利525

  项，其中：发明专利370项（已经授权154项），其中国际发明专利17项（已经授权9项）。公司的核心竞争力主要体现在：技术优势、创新优势、核心客户优势、销售渠道和品牌优势、产品质量管控优势和本土化优势。

  公司成立20多年来，始终坚持技术创新，目前形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术, 第三大核心技术电子光刻技术及第四大核心技术电子研磨技术开发和产业化全力推进中，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到国内领先水平。公司成立前10年，研发出了面向半导体封装领域的第一代电子电镀与电子清洗技术，为我国半导体封装引线脚工艺加工带来了一场根本性技术变革与提升；后 10年，研发出了面向芯片制造领域的第二代电子电镀与电子清洗技术，为我国芯片制造铜互连工艺填补了国产材料的空白，实现了国产替代和自主供应能力，一举突破了国外企业在这一领域的垄断，避免了被国外封锁与“卡脖子”的可能。迄今为止，公司是国内唯一能够满足芯片90-14nm铜制程全部技术节点对电镀、清洗产品要求的本土企业。

  公司能够始终坚持瞄准国际前沿技术，面向全球产业需求，突破国际技术垄断，填补国内技术空白，与公司创新能力的不断的提高密切相关。公司持续投入，进行技术创新与产品研发，半导体业务上市以来研发投入年均复合增长率近30%。半导体业务技术开发团队，30%为硕士研究生以上学历，30%的技术人员有10年以上行业经验。持续不断的研发投入、稳定的研发团队和创新文化是公司能够持续进行技术创新与产品研发的基础。近年来，公司除针对晶圆制造已有工艺所需关键材料进行替代性开发外，还与客户合作开展晶圆制造新工艺配套材料的原创性开发，并在部分关键领域取得突破。

  公司成立以来秉承“技术 质量 服务 合作”的宗旨以及“为用户增加利益 为行业提供动力”的使命。国内大多数半导体封装企业、国内众多知名晶圆制造企业是公司的长期合作客户，公司已经成为中国半导体产业链上不可或缺的重要力量。作为国内半导体材料企业，公司的产品多数情况下通过进口替代的方式进入晶圆制造企业。晶圆制造企业对材料技术要求高、认证严格，这也是公司晶圆制造用化学材料进入到客户端周期非常长的主要原因。公司凭借稳定可靠的产品质量和优质的客户服务，在集成电路关键工艺材料领域的竞争优势不断提高。

  20多年来，公司为120多个半导体封装企业、70多个芯片制造企业提供产品和服务，已经建立了完整的销售渠道并形成了品牌优势。公司已有销售渠道优势将有助于更多新业务在已有客户的成功导入，作为国内知名半导体工艺材料的品牌优势将有助于公司行业地位的提升和市场销售规模的不断扩大。

  晶圆制造工艺材料对产品质量稳定性和可靠性的要求非常严格和苛刻。公司已经按照晶圆制造材料的要求建立了完善的产品质量和工艺管控体系，并且在产品超纯和超净方面有独到的管控技术。公司有完善的质量管理体系，在2006年通过ISO9001的认证，2016年通过IATF16949的认证；在多个客户全球供应商评比中屡次获得第一名，质量管控体系及品质持续提升得到了客户的一致好评。

  目前公司主要竞争对手为美国、日本、欧洲等国际知名半导体材料供应商，这些企业具有先发优势，长期处于垄断地位，因此产品价格一般较高。公司相对于国外厂商占据中

  国大陆的地理优势，本土化的服务模式有利于公司及时响应客户需求，灵活性较强，能够降低客户仓储和物流成本。公司有一支经验丰富的技术服务团队长期跟踪客户生产过程，为客户提供产品改进方案，直至完全达到客户的要求。国外竞争对手由于其核心技术人员在海外，因此其在响应速度、服务质量以及深度上远远不及公司。半导体行业更新换代快，下游客户不断开发新产品、新技术，相较于国际竞争对手未在国内设立研发中心，公司的研发团队在客户对产品和技术需求形成前即与客户沟通，建立紧密联系，研发或提升产品以满足客户需求。

  征途漫漫，文以化人。大道如砥，行者无疆。公司自成立之初就确立了新阳文化的核心内容，历经二十余年发展，它犹如征途中的旗帜、远航中的灯塔，带领着全体新阳人在实践中创新，引领着新阳突破一个又一个的技术壁垒。

  2023年新阳文化发展到了新的阶段，其核心内容表述在继承中发展、提升。公司坚持以“技术 质量 服务 合作”为宗旨，秉持“创新 坚韧 专注 务实”的发展理念，要求员工“担当 专业 守正 认真”，持续以“为用户增加利益 为员工创造生活 为行业提供动力 为社会做出贡献”为使命，以将公司打造成为半导体材料行业引领者为愿景。在新阶段新阳文化的指引下，企业核心价值观知信行合一，成为公司持续健康高质量发展的核心竞争力之一。

  在党的二十大精神指引下，中国式现代化发展蓝图已经绘就，新时代构建新发展格局实现高质量发展新征程已经开启，科技创新新型制的大幕已经拉开，以企业为主体的新型创新体制正在形成。世界上百年未有之大变局愈演愈烈，国际间经济发展、科技创新竞争暗流涌动。面对国内繁重艰巨且令人振奋的发展任务与目标，面对国际暗流涌动、风高浪急甚或是惊涛骇浪的竞争局势，我国必将加快推进高水平科技自立自强，政府必将加大对芯片等高科技产业的政策支持与资金投入，社会必将对半导体产业给予更多关注和资源倾斜，集成电路产业必将获得一个相当长时期的大力投入与快速发展。公司及所处的集成电路材料领域面临着前所未有的重大战略发展机遇，前所未有的重大产业发展机遇，前所未有的重大技术创新机遇。

  半导体产业是我国电子信息产业的基础性核心产业，并成为影响国内信息产业结构调整和技术升级的关键因素。公司主要产品作为应用于集成电路领域的关键材料，属于国家重点鼓励、支持的战略性新兴产业。当前和今后一段时期是我国集成电路产业发展的重要战略机遇期和攻坚期，为了加快推进我国集成电路产业发展，加速半导体材料国产化、本土化供应的进程，国家及地方制定了一系列产业支持政策。《中国制造2025》制订了集成电路自给率的目标：2025年大陆集成电路市场内需自给率达50%。《中华人民共和国国民经济与社会持续健康发展第十四个五年规划和 2035年远大目标纲要》指出，聚焦新一代信息技术等战略性新兴起的产业，加快关键核心技术创新应用，增强要素保障能力，培育壮大产业高质量发展新动能；在事关国家安全和发展全局的基础核心领域，制定实施战略性科学计划和科学工程，瞄准集成电路等前沿领域，实施一批具有前瞻性、战略性的国家重大科技项目，我国正在成为前沿技术落地的“创新场”。国家对集成电路产业发展的高度重视为我国半导体材料产业持续发展创造了良好的政策环境。公司芯片制造用铜互连电镀液、添加剂、清洗液产品以及正在开发的光刻胶、研磨液产品是国内高端芯片制造所必需的核心材料，属于国家重点发展的战略产业之一，持续受到国家财政资金及有关政策的支持。

  作为全球电子产品制造大国及主要消费市场，随着全球半导体产业已进入AI、新能源汽车、人工智能、云计算、元宇宙等创新技术驱动的新增长阶段，各种形态的智能终端在人们生活中发挥着重要作用，集成电路材料作为实现这一终端目标的重要组成部分，发展前景广阔。据 WSTS 数据，预测2023年全球半导体产业营收入为5,201.3亿美元，较去年下降9.4%，预计到 2026 年全球集成电路市场规模将增至 7,478.62 亿美元。中国已成为全球半导体产业重要的生产和消费基地，产业规模和产业聚群效应明显，而国内集成电路关键工艺材料自给率仍然不高，其中，KrF光刻胶整体国产化率不足5%，ArF光刻胶整体国产化率不足 1%。受当前全球经济下行压力、国际政治环境不稳定等因素的影响，国家提出在国内国际双循环发展新格局下，强调要增强国内大循环内生动力。在我国电子信息化产业加速发展，国家实施工业化和信息化融合战略推进下，我国半导体材料市场销售额不断攀升，跃居全球第二位，产业的快速发展也为本土芯片生产制造企业带来机会，为国内半导体材料行业带来发展机遇。公司作为集成电路产业关键工艺材料生产厂商，作为国家集成电路全产业链上的重要一环，在积极落实增强国内大循环内生动力战略思想的同时，不断研发实现国家集成电路全产业链的自主可控，助力产业的快速发展。

  当今新一轮的科技革命和产业变革正在重构着全球创新的版图、重塑全球经济结构，如何更大程度地释放创新动能是抢占国际竞争制高点、打造经济增长新引擎的关键因素。在此背景下，国家前瞻性地提出新质生产力的发展战略。当前以人工智能、云计算、区块链、大数据等为代表的数字技术迅猛发展，不仅实现着对产业全方位、全链条、全周期的渗透和赋能，而且推动着人类生产、生活和生态的深刻变化。数字技术正以新理念、新业态、新模式全面融入人类经济、政治、文化、社会、生态文明建设各领域和全过程，给人类生产生活带来广泛而深刻的影响。数字技术已成为新一轮科技革命的主导技术，并赋予生产力新的内涵，新质生产力这一概念就反映了新一轮技术创新引领经济社会变革与发展的趋势。而发展以数字技术为基础产生的新质生产力离不开集成电路产业的支撑，数字经济依赖于大数据、云计算、人工智能等技术，而这些技术的实现离不开高性能、低功耗的集成电路产品。公司作为集成电路关键工艺材料领域的领先企业，持续聚焦发展新质生产力，增强企业核心竞争力，为企业未来发展提供更广阔的发展空间。

  集成电路关键工艺材料及装备是影响集成电路产业发展的决定性因素。我国集成电路关键工艺材料自主可控能力差，自给率仍然不高，其中，KrF光刻胶整体国产化率不足5%，ArF光刻胶整体国产化率不足1%，亟需提升我国半导体关键原辅材料的自主保障能力。当前，美国及其伙伴国将一些关键材料列入管制清单，危及我国半导体产业和相关工业体系的安全，企业加大集成电路关键工艺材料自主可控开发刻不容缓。我公司在政府一系列政策的鼓励和支持下，多次承担并完成了国家科技重大专项开发任务，多次获得国家各类科技专项资金支持。再加上公司配套投入的研发资金，有力地提升了公司的研发能力，加快了完全依靠公司自身资金投入实施有困难的项目研发和产业化进度，推动了新质生产力的发展，为公司长远发展注入新动能。

  公司根据实际业务发展情况，持续加大对光刻、清洗、研磨、电镀四大关键工艺材料领域的研发创新，在技术方面不断取得新突破。公司芯片制造用电镀、清洗系列产品国产化率不断提高，产品已实现90-14nm技术节点全覆盖，用于存储器芯片的清洗系列产品销售规模快速增长，应用于更高阶存储器芯片的工艺材料技术已开发完成，达到量产水平。公司自主研发的晶圆制造用光刻胶系列产品与客户合作紧密，根据市场需求在多家客户端开展认证工作，部分测试数据结果优异，认证进度不断加快，产品销售逐步放量。公司布局开发的多款研磨液（CMP）也已有成熟产品成功进入客户端，实现小规模销售。为满足公司在集成电路制造材料领域的快速发展，公司合理布局化学品材料产能，合肥第二生产基地、上海化学工业区内第三产业基地项目都在积极推进当中，不断完善了化学品产能需求，巩固公司在国内半导体材料领域的市场地位。公司坚持创新驱动，持续加大研发投入，加强前瞻性技术布局与产品技术开发，通过技术创新实现产品领先、行业领先。

  综上所述，半导体及电子信息产业作为国家的战略性基础产业，将长期受益于国家产业政策支持、电子信息产业、人工智能、物联网等新技术应用以及国内庞大的终端产品消费市场持续增长等有利因素，为半导体新型化学材料带来极大的发展机遇。在国家建设独立、自主、可控产业链，鼓励国内半导体材料国产化的政策导向推动下，本土半导体材料企业面临广阔的发展空间。

  公司将始终坚持技术主导与技术领先发展战略，紧紧盯住市场前沿发展技术，始终将技术创新放在公司发展的首位。持续不断地加大技术研发投入，适时地采用合作引进与自主研发相结合的方式，更快更好地开发出市场亟需的先进技术与产品，始终保持行业内的技术领先水平。通过持续不断地技术创新，提升公司竞争力，推动公司健康快速发展。

  二十多年来，公司深耕集成电路关键工艺材料领域，已实现了电镀、清洗、光刻、研磨四大关键工艺化学材料的开发。在晶圆制造及先进封装领域用电镀及添加剂材料、清洗材料方面，已实现90-14nm技术节点全覆盖，并大规模产业化。我们会持续向半导体工艺材料行业深入发展，加速已布局的集成电路关键工艺材料的开发与产业化，围绕晶圆制程技术节点提高、良率提升、工艺稳定等方面进行深入研究，探索研发新的集成电路制造工艺所需的新材料。创造更多原创研发与引领研发，不断为行业发展提供动力。

  1）围绕芯片铜互连工艺、蚀刻后清洗工艺、光刻工艺、研磨工艺，深入开发铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液、蚀刻液、I线、KrF、ArF干法光刻胶、ArF浸没式光刻胶及配套材料、研磨液等产品。近年来，公司在上述各个集成电路关键工艺材料领域都获得了不同程度的突破和进展。公司将一如既往地瞄准国内空白、国际领先的技术与产品立项开发，秉承审慎评估、扎实操作、风险可控的原则，争取一次立项一次开发成功，进一步巩固公司在国内半导体材料行业的领先地位。

  2）在晶圆级先进封装领域，着力建设晶圆级封装湿法制程工艺应用技术服务平台，致力于为用户提供化学材料、配套设备、工艺技术、现场服务整体化解决方案。有效整合化学材料、配套设备、湿法工艺等各种资源，全力打造完整的一体化技术服务平台，为前段、中段、后段半导体生产客户提供完整的一站式服务，为客户提供包括材料、设备、工艺、服务在内的整体化解决方案，使公司逐步发展为全球半导体材料行业领先公司。

  公司是技术密集型高科技企业，需要具备高素质的人才团队。随着公司所处行业要求的不断提高，公司内部提出建立一支具有“专业、认真、务实、执行力”的半导体人才团队。公司通过与大学及科研机构合作，共同研究开发新技术、新材料，培养新的专业人才并进行技术交流。其次，针对本公司行业特性，制定特定需求人才培训计划，帮助员工掌握先进的生产技术和管理方法，提升员工的综合素质和技能水平。再次，公司重视人才团队建设，注重培养员工的自主创新能力，激发员工的创造力，通过鼓励员工之间的多方面沟通和合作，促进协作精神与团队伙伴关系的建立。公司在进一步优化完善人力资源管理体系方面也持续优化，通过设立绩效考核、落实薪酬证券化机制不断拓宽人才吸引渠道，激发组织和员工活力，打造一支高绩效、素质一流、团队稳定的人才队伍，为公司长期持续发展提供强有力的保障。

  企业文化是企业组织的发展纲领、理念宗旨与表现行为，是组织成员的共同认知和价值追求，是企业的灵魂，是推动企业发展的不竭动力。

  新阳文化，承载着新阳人的集体品格与群体意识，是公司发展的战略纲领与行为导向，是公司发展历程的真实写照与经营成果的生动体现，是全体新阳人的智慧结晶和共同奋斗的成果。公司自创立以来，始终坚守技术主导的战略纲领，持续创新，不断突破，致力于成为一流企业、争创品牌、引领行业发展。二十多年的发展历程中，我们始终将用户的利益放在首位，为员工创造更好的生活，为行业注入源源不断的动力，为社会做出积极贡献。我们视国家产业需求为己任，视员工为公司最宝贵的财富。我们坚信，只有与员工携手合作，为员工搭建施展职业才华与实现职业价值的舞台，才能吸引更多优秀人才投身集成电路材料产业，共同推动产业的快速发展。

  展望未来，我们将继续深化文化引领，强化使命担当，与员工凝心聚力，共奋使命。我们将共同实现新阳公司的发展战略，推动公司健康稳定快速发展，进一步增强高水平科技自立自强能力，为我国集成电路产业建设贡献新阳力量！

  公司的电子化学材料具有品种多、批量少、升级快、研发投入大、周期长、风险高等特点，需要持续开发和创新。产品研发试制成功后，进行大规模生产时，任何设备工艺参数缺陷、员工素质差异等都可能导致产品品质波动，面临产品难以规模化生产风险。原创研发与引领研发面临更多的不确定因素与更大的失败风险。

  公司通过多年持续不断的研发投入，加强技术储备和科研管理，掌握了自主知识产权的核心技术，在电子化学材料研发及生产领域积累了较为丰富的经验和技术储备，能够降低新产品开发的风险。

  由于芯片制造工艺对环境、材料的要求严格，芯片制造企业一般选择认证合格的安全供应商保持长期合作，从而降低材料供应商变化可能导致的产品质量风险；同时，新的材料供应商必须通过芯片制造企业对公司和产品严格的评估和认证才能成为其合格供应商。因此，公司芯片铜互连电镀液、添加剂、清洗液、光刻胶及研磨液等新产品大规模市场推广面临客户的认证意愿、对公司质量管理能力的认可以及严格的产品认证等不确定因素，存在一定的市场推广风险。

  公司一直高度重视新市场推广工作，并通过加大新产品市场开发投入、严格新产品质量管理、引进新市场专业人员等手段控制新市场推广的风险。

  半导体产业具有技术呈周期性发展和市场呈周期性波动的特点，公司主营业务处于半导体产业链前端的材料和设备支撑行业，其市场需求和全球及国内半导体产业的发展状况息息相关，业务发展会受到半导体行业周期性波动的影响。受国际贸易摩擦、地缘政治矛盾加剧及供需关系大幅变动的影响，化工原材料及有色金属行业持续面临冲击，对公司下游客户需求或者订单量产生不利影响，将会增加公司生产成本。以上原因可能造成公司盈利水平下降，甚或公司面临业务发展放缓、业绩波动的风险。

  公司及时了解市场行情信息，对部分原材料采取预订、锁单等措施，保障采购材料的价格基本稳定，减少行情波动给公司带来的风险，并加大公司在技术开发和市场开发的投入。研发出符合市场需求的产品、加速进口替代扩大公司市场份额，保证经营业绩；开发技术、持续推出新产品可以不断拓宽公司产品应用领域，提高产品毛利。

  公司产品从生产工艺看属精细化工行业，虽然公司细分产品多为配方类的电子化学品，生产过程的污染工艺较少，但在生产经营中仍存在着少量“三废”排放。随着国家经济增长模式的转变和可持续发展战略的全面实施，国家环保政策日益完善，环境污染治理标准日趋提高，以及主要客户对供应商产品品质和环境治理要求提高，环保治理成本将不断增加。同时，本公司生产过程中使用的部分原材料为酸碱和有机溶剂，如操作不当可能发生安全事故，影响公司的生产经营，并可能造成一定的经济损失。

  公司对安全和环保工作高度重视，通过了环境管理体系、职业健康与安全管理体系、安全标准化企业等多项认证，并获得了安全生产许可证、危险化学品经营许可证等资质，能够有效减少安全环保方面的风险。

  公司拥有多项国家发明专利和实用新型专利，在不断研发的过程中，公司还形成了较多的非专利技术和核心配方，这些技术和配方都是公司技术领先的保证。如果出现任何侵犯本公司专利或相关知情人士违反保密义务的情形，可能对公司的正常经营产生不利影响。

  公司自成立以来就非常注重对专利、非专利技术和核心配方的保护，为了保证公司的核心机密不外泄，公司与董事、监事、高级管理人员、所有研发人员以及管理、财务等各个岗位的核心人员均签订了《保密协议书》，采取了配方保密、专人保管等特殊方法，并通过岗位分离及权限设置，避免部分技术人员掌握全部核心技术内容，最大限度的降低核心技术泄密风险。

  公司在对外投资决策过程中综合考虑了各方面的情况，为投资项目作了多方面的准备，但项目在实施过程中仍可能受到市场环境变化、国家产业政策变化、设备供应、产品质量管控、客户开发、产品市场销售等诸多因素的影响。投资项目不能顺利实施，或实施后由于市场开拓不力无法消化新增的产能，公司将会面临投资项目无法达到预期收益的风险。

  公司将组建专业项目团队，制定切实可行的项目实施方案，采取周密谨慎的办法组织实施，积极争取国家产业扶持政策，确保项目顺利实施并达到预期收益。

  伴随着半导体产业链国产化的趋势加快，行业技术迭代升级快及国家政策的持续鼓励等特点，电子化学品产业面临着良好的行业发展机遇，国内市场参与者逐步增加，将可能使市场竞争加剧。

  公司会持续跟踪、及时了解行业发展变化，把握行业发展的新趋势。不断开发新产品，持续实现技术创新、改善经营管理能力、提升产品质量、降低生产成本，减少在市场竞争中对公司经营业绩产生的不利影响。

  证券之星估值分析提示上海新阳盈利能力一般，未来营收成长性较差。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

  证券之星估值分析提示东方明珠盈利能力一般，未来营收成长性一般。综合基本面各维度看，股价合理。更多

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